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反应离子刻蚀设备.png

反应离子刻蚀设备

RIE反应离子刻蚀机用于刻蚀氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片，其高选择性各向异性刻蚀，可满足苛刻的制程要求，在纳米级别内进行精确刻蚀，同时确保极高的精度和质量。
产品型号
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